eski asml baş bilim sorumlusu çin in euv unu yönlendiriyor

tayvan lı tsmc nin hollanda asml den tedarik ettiği, 350-400 milyon dolarlık twınscan exe:5000 modellerinin muadilleri ilk kez çin de geliştiriliyor!

araştırma ekibi, katı hal lazer tahrikli yaklaşımla fotolitografi araştırmalarında dünya standartlarında sonuçlar elde ediyor, makale bunu gösteriyor


çinli araştırmacılar, yerli üretiminin önündeki engeli ortadan kaldırdı . gelişmiş çiplerin uluslararası düzeyde rekabetçi parametrelerde çalışan aşırı ultraviyole (euv) ışık kaynağı platformu geliştirerek

çin bilimler akademisi şanghay optik ve ince mekanik enstitüsü'nden oluşan ekibe, daha önce hollanda'daki asml'de ışık kaynağı teknolojisi başkanı olarak görev yapan lin nan liderlik ediyor.

yedi nanometrenin altındaki yongaların üretiminde kritik öneme sahip euv makinelerinin dünyadaki tek üreticisi olan asml , abd'nin baskıları nedeniyle 2019'dan bu yana en gelişmiş modellerini çin'e satamıyor.

dünyanın dört bir yanındaki en büyük konular ve trendler hakkında sorularınız mı var? scmp knowledge ile yanıtları alın. ödüllü ekibimizin size sunduğu açıklamalar, sss, analizler ve infografiklerle hazırlanmış içerik platformumuz

asml genel müdürü christophe fouquet, 16 nisan'da yatırımcılara yaptığı çağrıda, "her zaman bir miktar euv ışığı üretmek mümkündür, ancak çin'in bir euv makinesi üretmesi için çok uzun yıllar geçmesi gerekir" dedi.

lin, ülkenin yurt dışında yürüttüğü üst düzey işe alım kampanyasının bir parçası olarak 2021 yılında çin'e döndü ve makalenin hazırlanmasından sorumlu olan ileri fotolitografi teknolojisi araştırma grubunu kurdu.

lin, asml'ye katılmadan önce, avrupa birliği'nin marie sklodowska-curie actions programı kapsamında verilen bir burs kapsamında, 2023 nobel fizik ödülü'nü kazanan ve isveç kraliyet bilimler akademisi üyesi olan anne l'huillier'den danışmanlık alıyordu.

çin lazer dergisi'nin mart sayısında yer alan makalede, ekibin fotolitografi makinelerinin ana bileşeni olan lazerle üretilen plazma (lpp) euv ışık kaynağı geliştirdiği ve bunun çin'in yarı iletken endüstrisi için çığır açıcı olabileceği belirtiliyor.

açıklamada, "deneysel platform, katı hal lazer tahrikli plazma euv ışık kaynaklarının ve ölçüm sistemlerinin yerelleştirilmesini destekleyecek ve çin'in euv fotolitografi teknolojisini ve temel bileşenlerini geliştirme çabalarında önemli bir rol oynayacak" denildi.

makaleye göre lin ve ekibi, asml'nin co2 ile çalışan teknolojiden elde edilen ışığı kullanarak devre desenlerini silikon ve diğer alt tabakalara aktaran endüstriyel fotolitografi cihazlarının aksine, katı hal lazerine dayalı bir platform oluşturdu.

co2 lazerler, katı hal tabanlı platformların daha düşük performansına kıyasla 10 kilowatt'tan fazla güç ve yüksek tekrarlama frekansı sağlar.

lin ve meslektaşları, "ticari co2 lazerler yüksek güç sağlasa da, büyüktür, duvar prizi verimliliği açısından verimsizdir (%5'in altında) ve işletme ve elektrik açısından maliyetlidir" diye yazdı.

"son on yılda hızla gelişme gösteren katı hal darbeli lazerler artık kilowatt düzeyinde güç çıkışına ulaşıyor ve gelecekte bunun 10 katına çıkması bekleniyor.

"bunlar kompakt bir boyuta sahip, duvar prizine takıldığında yaklaşık yüzde 20 verimlilik sağlıyor ve lpp-euv fotolitografisi için yeni nesil itici güç kaynağı olarak co2 lazerlerin yerini alabilecek umut verici bir çözüm olabilir."

makalede, deneysel platformun, katı hal llp euv'leri üzerine yapılan benzer uluslararası araştırmalarla aynı seviyede sonuçlar elde ettiği ve ticari olarak satılan co2 lazerle çalışan ışık kaynaklarının dönüşüm verimliliğinin yarısından fazlasına ulaştığı belirtildi.

ekip, 1 mikron katı hal lazeri kullanarak yüzde 3,42'lik maksimum dönüşüm verimliliğine ulaştı. bu, hollanda ileri nanolitografi araştırma merkezi'nin 2019'da kaydettiği yüzde 3,2'lik ve eth zürih'in 2021'deki yüzde 1,8'lik verilerini geride bıraktı.

veri karşılaştırması, çin platformunun, 2007 yılında yüzde 4,9'luk dönüşüm verimliliğine ulaşan central florida üniversitesi'nin ve geçen yıl yüzde 4,7'lik dönüşüm verimliliği kaydeden japonya'nın utsunomiya üniversitesi'nin gerisinde kaldığını gösterdi.

makaleye göre, ticari olarak satılan co2 lazerle çalışan euv fotolitografi ışık kaynaklarının dönüşüm verimliliği yaklaşık yüzde 5,5'tir.

araştırmacılar, yeterince yüksek dönüşüm verimliliği oranı sağlayabilen kilowatt düzeyindeki 1 mikron katı hal lazerlerinin halihazırda iyi geliştirilmiş ve ticari olarak temin edilebilir olduğunu belirtti.

"yüzde 3'lük bir dönüşüm verimliliğiyle bile, katı hal lazerle çalışan bir lpp-euv ışık kaynağı, watt aralığında güç sağlayabilir ve bu da onu euv maruziyetinin doğrulanması ve maske denetimi için uygun hale getirir" diye yazdılar.

araştırmacılar, platformun teorik maksimum dönüşüm verimliliğinin yüzde 6'ya yaklaşabileceğini tahmin ediyor. makalede, hem teorik hem de deneysel sonuçları optimize etmek için daha fazla ölçüm eklemeyi planladıkları belirtiliyor.